光刻機已經交付了嗎

光刻機已經交付了。

光刻機是芯片制造的關鍵設備，其工作原理基於光學技術和化學技術，光刻機通過紫外線光來投影圖像，並通過光學系統將圖像轉移到特定的基板表面上。高端光刻機的制造難度絲毫不亞於原子彈，放眼全球，也只有ASML、Canon、Nikon、SMEE等幾家公司具備生產光刻機的能力。

值得註意的是，SMEE是壹家來自中國的光刻機制造商，該公司成立於2002年。2012年，SMEE公司生產的SSB500系列光刻機首次實現海外銷售，2018年，SMEE 90nm光刻機項目通過正式驗收。就在近日，SMEE向昆山同興達交付了2臺光刻機。

從SMEE官方資料來看，該公司目前生產的光刻機最高分辨率只能達到90nm。英特爾於2004年發布的奔騰4處理器就采用90nm制程工藝制造，也就是說，在光刻機領域，我國和西方國家還有20年左右的差距，全球半導體市場仍然以美國、日本、韓國等國家為主導，中國半導體產業的發展還有很大潛力。

光刻機的工作原理：

在加工芯片的過程中，光刻機通過壹系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小後映射到矽片上，然後使用化學方法顯影，得到刻在矽片上的電路圖。

壹般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘幹、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經過壹次光刻的芯片可以繼續塗膠、曝光。越復雜的芯片，線路圖的層數越多，也需要更精密的曝光控制過程。